會議詳情
報(bào)告專場時(shí)間:2024年11月29日 14:00-17:00
報(bào)告專場地點(diǎn):四川成都新希望高新皇冠假日酒店 一層國槐梧桐
大會官網(wǎng):
https://b2b.csoe.org.cn/meeting/PWC2024.html#720_721
為進(jìn)一步加強(qiáng)青年人才隊(duì)伍建設(shè),激發(fā)青年學(xué)者的科研熱情,支持鼓勵各層次青年學(xué)者的成長,本次活動由各專題與大會組委會共同組織,在會議期間舉辦學(xué)術(shù)新星專場報(bào)告、碩博學(xué)生專場報(bào)告,并評出學(xué)術(shù)新星、優(yōu)秀學(xué)生報(bào)告授予證書。參與方式及相關(guān)信息參見下表,歡迎廣大青年學(xué)者積極投稿報(bào)名參與,截止時(shí)間為11月15日。
參與形式:系統(tǒng)投稿:
https://b2b.csoe.org.cn/submission/PWC2024.html,題目備注參與報(bào)告類型。
*說明:報(bào)告專場與各專題口頭報(bào)告可同時(shí)報(bào)名參與。

投稿須知:
1、投稿網(wǎng)站:
https://b2b.csoe.org.cn/submission/PWC2024.html
2、 SPIE文集,EI核心收錄
投稿請登陸投稿網(wǎng)站先提交英文摘要(不少于500字),組委會請學(xué)術(shù)委員會審查后發(fā)郵件通知作者錄用情況。按照論文質(zhì)量推薦發(fā)表在大會文集上,錄用通知根據(jù)提交摘要的前后順序發(fā)放。
3、合作期刊:
PhotoniX(SCI)、Light:Science & Applications(SCI)、Optical Engineering(SCI)、Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS(SCI)、Photonic Sensors (SCI)、Opto-Electronic Advances(OEA)(SCI)、《信息與電子工程前沿(英文)》(FITEE)(SCI)、《紅外與激光工程》(Ei)、《液晶與顯示》(ESCI)、《中國光學(xué)》(ESCI、Ei)、《光子學(xué)報(bào)》(ESCI、Ei)、《發(fā)光學(xué)報(bào)》(Ei)、《光學(xué)精密工程》(Ei)、SPIE Proceedings(Ei)、Nanomanufacturing and Metrology (Ei)、Light: Advanced Manufacturing(DOAJ)、eLight、《光電工程》、《航天返回與遙感》etc.《半導(dǎo)體學(xué)報(bào)》(SCI)、《紅外與毫米波學(xué)報(bào)》(SCI)、《量子電子學(xué)報(bào)》(CSCD)、《激光生物學(xué)報(bào)》(學(xué)術(shù)期刊)、《光電子快報(bào)》(ESCI、Ei)、《光電子激光》(CSCD)、《光通信研究》(北大核心)、《激光技術(shù)》(中文核心)。
4、不發(fā)表文章,只做會議交流。
會議支持憑摘要參會。摘要投稿鏈接:
https://b2b.csoe.org.cn/submission/PWC2024.html
5、最后截稿日: 2024年11月15日
組委會聯(lián)系人
曹凱選(投稿、報(bào)名),18301632607,caokaixuan@csoe.org.cn

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